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金相磨抛机
晶圆半导体磨抛机

NIPOL-2001型精密研磨抛光机设有三个加工工位,是可进行大尺寸样品磨抛的落地式磨抛机,用于晶体、陶瓷、金属、玻璃、岩样、矿样、PCB板、红外光学材料(如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体)、耐火材料、复合材料等材料的研磨抛光制样,是科学研究、生产实验理想的磨抛设备之一。

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产品详情

 

UNIPOL-2001型精密研磨抛光机设有三个加工工位,是可进行大尺寸样品磨抛的落地式磨抛机,用于晶体、陶瓷、金属、玻璃、岩样、矿样、PCB板、红外光学材料(如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体)、耐火材料、复合材料等材料的研磨抛光制样,是科学研究、生产实验理想的磨抛设备之一。本机设置了Ø508mm的研磨抛光盘和三个加工工位,可用于研磨抛光≤Ø160mm的圆片或对角线长≤160mm的矩形平面。在研磨过程中三个加工工位可以一定的频率左右摆动,同时推动载物块左右摆动,载物块在进行自转的同时随着研磨盘公转,使样品做无规则运动,使研磨后的样品表面质量均匀。研磨抛光机配备的载物块是具有高的平面度和平行度的精密圆柱状金属块,使研磨后的样品表面也具有高的平面度,并且不会使样品边缘倒角,对边缘要求高的样品尤其适合。若配置适当的附件(GPC系列精密磨抛控制仪),可批量生产高质量的平面磨抛产品,例如直径≤Ø160mm晶圆样品的研磨与抛光。采用研磨盘加磨料的方式研磨样品,也可以选用抛光盘贴砂纸的方式研磨样品,砂纸或抛光垫采用磁力吸附的方式装卡,装卸方便。具体选用砂纸研磨还是磨料研磨可根据被研磨样品的材质进行选择。

产品名称       UNIPOL-2001型精密研磨抛光机
产品型号       UNIPOL-2001
主要参数       1.研磨盘:直径φ508mm(20英寸) 
2.载样盘:直径φ160mm(6英寸),厚度35mm
3.修盘环:外径φ196mm,内径φ160.5mm,厚度35mm
4.摆臂支架:每120°设置1个,共3个
5.工位数量:3个
6.研磨盘转速:转数:20-120转/分钟
7.支架摆动速度档位:10-30档   (参考速度:5.5-13.5次/分钟)
8.传动机构电机:变频电机:1.5kW,  220V  
9.总功率:1.7kW  220V
产品规格      

外形尺寸:

·尺寸:落地式,820*1180*945mm

·重量:450kg

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